金融界2025年7月14日消息，国家知识产权局信息显示，美光科技公司申请一项名为“在相邻特征之间形成导电管的方法及在相邻特征之间具有导电管的集成组合件”的专利，公开号CN120300096A，申请日期为2021年03月导电 。
专利摘要显示，本公开涉及在相邻特征之间形成导电管的方法及在相邻特征之间具有导电管的集成组合件导电 。一些实施例包含一种集成组合件，其具有通过介入空间彼此隔开的一对大致上平行特征。导电管在所述特征之间且大致上平行于所述特征。所述导电管可形成于管路内。所述管路可通过以如下方式在所述特征之间沉积绝缘材料而产生：夹断所述绝缘材料的顶部区，以使所述管路作为所述经夹断顶部区下方的空隙区。
来源：金融界